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中国在光刻机和芯片制造技术方面与世界先进水平相比落后二十年 ...

2020-8-22 04:12| 发布者: redchina| 查看: 6320| 评论: 0|原作者: 自由亚洲电台|来自: 自由亚洲电台

摘要: 强国一直未能自主量产先进晶片,问题卡在了光学系统、激光器或者最难做的光学镜头上。光刻是晶片制造最核心、最难的环节,而且占制造晶片成本的三成。
全球光刻机霸主ASML现在已经能够量产5纳米和3纳米制程晶片,但强国在这方面仍落后了几十年。目前上海微电子仅有一台尚没有量产、只能做到90纳米制程的光刻机,使用的实际上是海外20年前的光源技术。中芯国际花了1.2亿美元向荷兰光刻机巨头ASML订购的强国首台EUV光刻机,足足等了三年,因为一场神秘火警,仍然未能成事。

有分析指出,强国一直未能自主量产先进晶片,问题卡在了光学系统、激光器或者最难做的光学镜头上。光刻是晶片制造最核心、最难的环节,而且占制造晶片成本的三成。

图为ASML生产线

最近某日媒报道称,晶片代工巨头台积电自去年起,已有100多位高级工程师和管理人员被挖角到强国,年薪开出逾2倍。对相关报道,台积电董事长刘德音直斥其非,强调传言与事实不符,且最近半年新冠肺炎疫情严重,不太会有人要离开台湾,且台积电今年生意特别好,大举征才8000人,是往年的一倍。

这条新闻的看点很多。首先它说明了中共的虚假新闻战(war of misformation)并不限于强国传媒,其大外宣长爪早已伸到某些外媒。相关日媒已是连续第三年发布这一虚假消息,并且不以为耻。另外,它也说明了强国现在对自主研发晶片的需求是如何迫切,甚至绝望!


来源:自由亚洲电台

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